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中微公司临港基地落成开启新篇章

  中新网上海新闻8月2日电 (记者 李佳佳)中微半导体设备(上海)股份有限公司2日迎来成立20周年纪念日,并于临港产业化基地隆重举行“20周年盛会华章暨临港基地落成庆典”。

  中微公司临港产业化基地占地约157亩、总建筑面积约18万平方米,配备行业领先的实验室、业界高标准的洁净室、先进的生产车间及智能化立体仓库等设施,可实现生产全程数字化、智能化管理,从而为公司进一步强化生产能力、研发能力和科技创新水平提供了有力支撑。

  中微公司创始人、董事长兼总经理尹志尧表示:“20年前,我们从一张白纸,筹划实现高端芯片设备的宏伟梦想。我们一次次冲破险阻而立于不败之地,这一切都源自我们’攀登勇者,志在巅峰’的雄心壮志和’自强不息,厚德载物’的团队奋斗精神!这一切都来源于我们所认同的和我们所遵循的’四个十大’,这包括产品开发的十大原则,战略销售的十大准则,营运管理的十大章法和精神文化的十大作风。“他表示,半导体微观加工设备的产业是数码产业基石,我们选择的是打造”国之重器“这条艰难的道路。中微公司上下一心,用技术的创新,产品的差异化和知识产权的保护,攻克了一个又一个的技术难关,用优质过硬的产品获得了市场认可,用高效完善的服务赢得了客户信赖。”回首过往的二十年,我们实现了从一到十的进展。展望下一个二十年,我们要实现十到一百的跨越!”

  从2004年一张白纸开始的初创公司,成长为2019年首批科创板上市企业;从当初一支仅有15人的创业团队,逐渐成长为如今全球员工超过两千人的规模;从张江高科技园区内一间不起眼的办公室,逐步发展为厂房和办公楼面积即将达到45万平方米的规模;从起步阶段在技术领域不断探索尝试,到拥有两千余项授权专利、技术能力;从2007年首台刻蚀设备、薄膜设备研制成功并运往国内客户,到2024年公司累计已有超5000个反应台在国内外130多条生产线实现量产和大规模重复性销售,中微公司在二十年坚韧不拔的发展过程中,持续追求技术创新和卓越运营,深刻诠释了“攀登勇者,志在巅峰”的中微精神。

  二十年来,中微公司在不断攀登高峰的路上成果颇丰。公司在科学技术、客户满意度、知识产权、质量认证等领域获得众多赞誉,累计荣获百余项知名奖项。在美国TechInsights全球客户满意度调查中,中微公司连续多年排名位居前列。2023年,公司荣获“上海市科技进步一等奖”,并还多次入选福布斯中国蕞具创新力企业50强榜单。公司高度重视技术创新与知识产权保护,在产品开发过程中始终坚持“为技术的创新、设备的差异化和IP保护而开发”的企业文化。截至2024年6月,公司累计申请专利已达2648项,已获授权专利1670项,其中发明专利占比高达85.87%。此外,公司两次荣获“中国专利金奖”,多次荣获“中国专利优秀奖”、“上海市发明创造专利奖”和“上海市知识产权创新奖”等奖项。如今,中微公司已成为中国国内半导体设备的领先企业,也是国际半导体设备产业冉冉升起的一颗新星。

  当前,中微公司在刻蚀设备、薄膜沉积设备、MOCVD设备等领域均取得了显著成就。在刻蚀设备方面,凭借行业首创的刻蚀设备双台机技术,中微公司率先提出“皮米级”加工精度概念,其刻蚀精度已经达到100“皮米”以下水平,相当于头发丝350万分之一的精准度,并且产品具备刻蚀应用覆盖丰富等优势,能够满足90%以上的刻蚀应用需求,技术能力已覆盖5纳米及以下更先进水平。中微公司刻蚀设备市场占有率持续提升,不断收到领先客户的批量订单。

  中微公司持续加码创新研发,在半导体薄膜沉积设备领域也不断突破,推出了Preforma Uniflex CW、Preforma Uniflex HW、Preforma Uniflex AW等多款新产品以满足市场需求,为公司业务多元化发展提供了强劲的增长动能。此外,公司新开发的硅和锗硅外延EPI设备、晶圆边缘Bevel刻蚀设备等多款新产品,也会在近期投入市场验证。

  在MOCVD设备方面,中微公司自推出头部代MOCVD设备PRISMO A7以来,不断丰富产品线且快速升级迭代,目前在Mini LED等氮化镓基设备领域,中微公司的市场占有率稳居前列,并持续开发用于氮化镓、碳化硅等功率器件及Micro-LED器件制造的MOCVD设备。此外,中微公司还通过投资布局了第四大设备市场——光学检测设备。

  在集成电路产业飞速发展的浪潮中,中微公司以高端半导体设备为核心,坚持技术的创新、产品的差异化和知识产权的保护,不断开发具有市场竞争力的设备;同时,中微公司将整合产业链上下游和相关资源作为另一发力点,积极考虑投资和并购,推动公司更快发展。预计未来五到十年,中微公司将通过自主研发以及携手行业合作伙伴,覆盖集成电路关键领域50%至60%的设备。

  随着临港产业化基地的全面投入使用,中微公司的未来发展蓝图正徐徐展开。2023年7月,14万平方米的中微公司南昌生产研发基地落成并投入使用;目前,位于滴水湖畔的中微临港总部暨研发大楼也正在建设中,建成后占地面积约10万平方米。未来,中微公司的生产和研发基地总面积将达到约45万平方米,为今后的大发展夯实基础。

  此外,中微公司也在全球多点布局,汇聚研发势能。目前,中微公司的客户遍布中国大陆和中国台湾、新加坡、韩国、德国、意大利等10多个国家和地区,在全球范围内拥有2000多名员工,其中研发人员占比接近半数。

  未来,中微公司将继续秉持“攀登勇者,志在巅峰”的精神,践行“四个十大”的企业文化,深入推进三维发展战略,持续提升综合竞争力,在技术进步、业务发展、业绩增长、规范治理等方面不断提高水平,实现高速、稳定、健康和安全的发展,为客户和市场提供性能优越、高生产效率和高性价比的设备解决方案,为全球半导体行业的发展作出更大的贡献。

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